特化品廢液回用技術解析：如何降低半導體廠化學品成本？

為什麼半導體廠的特化品成本居高不下？

半導體製程從清洗、蝕刻、顯影到化學機械研磨，每一道關卡都仰賴高純度特化品。電子級化學品對純度與微粒控制要求極高，價格遠高於一般工業級產品；而製程節點越先進、單片晶圓的化學品用量越大，奈米等先進製程所產生的化學品與廢棄物量，更較成熟製程大幅增加。

另一方面，這些化學品使用後並不會憑空消失，而是轉化為大量廢液。台灣每年產生的廢酸量已達數十萬噸規模，並隨半導體擴產持續成長。若全數委外清運處理，不僅清運與處理費用龐大，也讓晶圓廠暴露在化學品供應與法規風險之下。換言之，真正的化學品成本，是「採購支出」加上「廢棄處理支出」的總和—而廢液回用正是同時壓低這兩端的關鍵。

特化品廢液回用的三大核心技術

廢液回用的核心概念，是將製程後的廢液經過分離、純化與再製，重新成為可用的化學品原料；依純度高低，可回供原製程使用，或轉作其他工業用途。以下三項技術是目前半導體廠最常見的應用。 

一、廢硫酸再生純化

硫酸與雙氧水混合而成的 SPM廣泛用於晶圓表面清洗。廢硫酸再生的關鍵，在於去除殘留的過氧化氫與微量金屬雜質，目前主要採用催化分解、加熱分解等方式，新興的電磁波技術則具有低耗能、低污染的優勢。經純化後的再生硫酸可重新投入製程。

二、廢異丙醇（IPA）回收

異丙醇用於元件清洗與乾燥後，會形成廢異丙醇水溶液。利用異丙醇與水的共沸特性，在約攝氏 82 度下經蒸餾設備純化，可回收得到純度約 99.9% 的工業級異丙醇，再作為塗料、油墨、清洗劑等原料；若進一步深度提純，亦有機會回供半導體製程使用。

三、TMAH 顯影劑與蝕刻液循環

光阻顯影所使用的 TMAH 顯影劑廢液，可透過電解與純化程序再製為半導體級顯影液，回供晶圓廠使用。銅蝕刻液、氟化鈣污泥等其他製程副產物，同樣能藉由資源化技術轉為可再利用的原料，逐步把過去認定的「廢棄物」重新定義為「物料」。

國產化方案的成本紅利：建置、維護、客製三方面省

特化品廢液回用要落地，除了技術可行性，導入與維護成本同樣決定 ROI。亞氨科技以國產化技術為基底，相較於進口設備，初期建置成本約僅進口品牌的四分之一到三分之一；在地化團隊提供快速響應與高度客製化的系統設計，避免標準化規格與國外原廠維修等待造成的停機損失。更重要的是，其技術定位明確指向「真正的資源回用」，而非僅做降級處理或直接排放，化學品才能以高純度回到產線，最大化每一公升廢液的剩餘價值，真的落地了目前綠色供應鏈，成功導入廠內氫氣回用系統工程與驗證

把廢液變成毛利的契機|亞氨科技股份有限公司

亞氨科技已與隆達電子、開發晶照明與化合物半導體大廠合作，協助廠內導入氫氣回用系統工程與驗證，案場成果包括減少 70% 二氧化碳排放、廢水氨氮排放符合法規、並通過 ISO 14001 環境管理指標。整體碳排放削減效益達 60%，並榮獲第 21 屆金峰獎「年度傑出企業」與「傑出創新研發」雙料肯定，是國產循環經濟方案的具體背書。特化品廢液回用，本質上是把「買化學品、丟廢棄物」的線性模式，轉變為「用化學品、循環再生」的循環模式，同時回應成本、供應穩定與 ESG 三項挑戰。亞氨科技以 EVM 高頻震動膜、MVR+DTRO、廢硫酸純化、7N 純氨回用四大技術，加上國產化的成本與服務紅利，協助半導體、PCB、LCD、LED 廠把廢液變回原料、把成本中心變成毛利貢獻。若您的廠區正在評估特化品廢液回用方案，歡迎預約亞氨技術專家諮詢，獲取量身打造的循環經濟設計。 

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